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세계 최대 Cleaning시장에 판매되는 완전자동화된 세척 장비이며, Loading/Unloading은 물론 Return Conveyor에 의한 작업성 및 Mass Production에 적합하도록 구성되었으며, 초보자도 몇 개의 Button에 의하여 쉽게 사용 할 수 있습니다
◇ 장비 특성 : Belt구동방식의 단점(Particle Generation)을 보완하여 로봇암에 의한 운송방식을
사용한 최적의 세척장비로서 Semiconductor Fab.에 요구되는(Class 10) 환경에
적합하며, 모든 Production Capa.의 요구에 부응할 수 있는 최상의 Customized된
장비입니다.
◇ 적용 분야 : HDD(Cover, Base, HSA), Disk Media, Wafer Box&Cassette, Reticle Box, FOUP.
◇ 세정 방식 : Ultrasonic Tank Wash → Ultrasonic Tank Rinse → DIW Rinse → CDA/N2 Dry →
Vacuum Dry
◇ 구성 방식 : 장비구성은 2~3개의 Wet Station과 3~5개의 Dry Station으로 구성되어 있습니다.
기본적인 Tank Size는 25㎝ x 36㎝ x 25㎝ 에서 61㎝ x 92㎝ x 51㎝가 있습니다.
(Customized tank sizes 가능)
3개의 Process Station은 가장 일반적으로 적용 가능한 범용 세척기로 사용 가능
하며, Rinse Tank하나를 추가하 게 되면 Micro Level까지 세척이 가능합니다.
5조(wash-wash-rinse-rinse-dry) 구성은 Solvent조와 함께 조합하여 System을 복합
적으로 구성 할 수 있습니다
S 사에 설치된 장비의 예
 
Progressive high-frequency ultrasonic cleaning systems are proving extremely effective in submicron particle removal. Sample 8-station Precision Ultrasonic Cleaning System
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